Intel用上美國自研的光刻機曝光設備：省事一半、成本大降
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編輯 : 育兒知識
發布 : 04-07
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Intel當前的12代、13代酷睿使用的是Intel 7工藝，今年底的14代酷睿Meteor Lake還會首發Intel 4工藝，這也是Intel首次大規模使用EUV光刻機。EUV光刻機雖然先進，但是成本也高，而且高端工藝甚至需要雙重光刻，也就是用EUV光刻機曝光兩次，生產工序就需要重復兩次，比如蝕刻、清洗、沉積、去膠等等，無疑會增加成本。美國半導體設備大廠應用材料現在推出Centura Sculpta曝光系統設備，將原本需要雙重曝光的EUV光刻工藝簡化到了單次曝光，大大降低了設計成本和復雜性，并且消除了雙重曝光所需的對準導致的良率問題。根據應用材料的說法，采用該系統的芯片制造商如果運行一條每月加工10萬片晶圓的生產線，將節省多達2.5億美元的資本成本。此外，每片晶圓的成本將減少約50美元，所需能源也將減少15千瓦時，還將減少15升水的需求，減少0.35千克的二氧化碳排放。這個新設備已經有Intel投入使用了，三星及臺積電用沒用還沒公布，但是Intel無疑會走在降低成本的前列。
